Mask-Conditioning
마스크 조건화
생성 모델의 입력으로 원본 이미지와 함께 해당 영역의 마스크를 잠재 표현 차원에서 결합하는 기법이다. 본문에서는 VAE 잠재의 채널 차원에 마스크 잠재를 채널 합쳐넣어(H×W 격자는 유지) 공간적 제어를 구현했다. 이렇게 하면 어텐션 비용 증가 없이 픽셀 단위 배치·핏 제어가 가능하다.
마스크 조건화
생성 모델의 입력으로 원본 이미지와 함께 해당 영역의 마스크를 잠재 표현 차원에서 결합하는 기법이다. 본문에서는 VAE 잠재의 채널 차원에 마스크 잠재를 채널 합쳐넣어(H×W 격자는 유지) 공간적 제어를 구현했다. 이렇게 하면 어텐션 비용 증가 없이 픽셀 단위 배치·핏 제어가 가능하다.
