마스크 조건화
생성 모델의 입력으로 원본 이미지와 함께 해당 영역의 마스크를 잠재 표현 차원에서 결합하는 기법이다. 본문에서는 VAE 잠재의 채널 차원에 마스크 잠재를 채널 합쳐넣어(H×W 격자는 유지) 공간적 제어를 구현했다. 이렇게 하면 어텐션 비용 증가 없이 픽셀 단위 배치·핏 제어가 가능하다.
