euv-lithography

극자외선 광원을 사용하여 반도체 웨이퍼에 미세한 회로를 그리는 기술이다. 7nm 이하의 초미세 공정에 필수적이며, 중국이 글로벌 반도체 패권 경쟁에서 자립하기 위해 집중적으로 개발 중인 핵심 분야이다.